350 Nanometer: Russland baut erste eigene Lithografie-Systeme
>Russland meldet einen Erfolg bei der Produktion heimischer Chip-Fertigungstechnik: Das Zelenograd Nanotechnology Center (ZNTC, ЗНТЦ) stellt laut Mitteilung zusammen mit Planar (ПЛАНАР) das erste russische Lithografie-System her. Planar hat seinen Hauptsitz in Belarus.
Bisher waren russische Chipfertiger wie Angstrem auf ausländische Lithografie-Systeme angewiesen. Dazu sollen sie laut niederländischen Medien auch ausgediente Systeme von ASML aus China importiert haben.
Jahrzehntelanger Rückstand
Die russische Fertigungstechnik liegt allerdings weit hinter dem Stand der Technik in Taiwan, den USA, China und anderen Industrieländern zurück. Das ZNTC-System kann eigenen Angaben zufolge nur verhältnismäßig grobe Strukturen mit 350 Nanometern auf 200 mm kleinen Silizium-Wafern belichten. Zu den Details schweigen sich die Verantwortlichen aus. Es ist nur kryptisch von einem Festkörperlaser die Rede.
Westliche und asiatische Chipfertiger haben in den 90er-Jahren 350-nm-Chips hergestellt, Intel etwa den Pentium P54CS und P55C und MIPS Technologies den VR4300i für die Nintendo-64-Konsole.
Der weltweit größte Chipauftragsfertiger TSMC wechselt in diesem Jahr auf 2-nm-Fertigungstechnik mit 300-mm-Wafern.
Fürs Militär interessant
Russland hinkt damit drei Jahrzehnte hinterher. Für Desktop-PCs, Server, Notebooks oder Smartphones sind keine konkurrenzfähigen Prozessoren oder andere Logikchips herstellbar. Die angekündigten neuen Produktionslinien dürften für Mikrocontroller und Sensoren gedacht sein. Ein denkbarer Abnehmer: das Militär.
Einige Chips, etwa für Marschflugkörper, stellt Russland selbst her. Auch mit eigenen Lithografie-Systemen bleibt Russland jedoch von ausländischen Herstellern abhängig: In fehlgezündeten Marschflugkörpern fanden Forscher unter anderem Signalprozessoren (DSPs) von Texas Instruments (TI) mit 40-nm-Technik und feiner. Russische Firmen sollen bisher Chips mit 90-nm-Strukturen selbst herstellen können.
Das ZNTC will bis Ende 2026 die Entwicklung von eigenen Lithografie-Systemen für 130-nm-Prozesse abschließen. Einsatzbereit wären solche dann vermutlich 2027 oder 2028. 130 nm entspricht einem Technikstand der frühen 2000er-Jahre. Bereits 2022 kündigte die Lobatschewski-Universität Nischni Nowgorod die Entwicklung von Lithografie-Systemen für 7-nm-Chips an, was damals aber schon unglaubwürdig klang. Verglichen mit ausländischen Herstellern sind die Forschungsbudgets in Russland klein.